Kromplade

Inden for vakuumbelægning, halvlederfremstilling og højtydende legeringsforskning og -udvikling bestemmer materialernes renhed og fladhed direkte filmdannelsen af ​​slutprodukter. Chromium Plate, med sit smeltepunkt på op til 1907 grader og fremragende korrosionsbestandighed, er ved at blive et uerstatteligt metalsubstrat af "strategisk kvalitet" i den globale højteknologiske-industri.

1. Kerneydelse: uforgængelige fysiske gener

Chrom (Cr) giver ikke kun materialet en glamourøs sølvskinnende-hvid glans, men bygger også et kraftfuldt forsvarssystem på mikroniveau:

Fremragende oxidationsmodstand: Overfladen danner hurtigt en tæt passiveringsfilm ved stuetemperatur, som effektivt kan modstå oxidation og syre-baseerosion, selv når det kommer til høj temperatur.

Høj hårdhed og slidstyrke: Mohs hårdhed er helt op til 8,5, så den stadig kan have en planhed på overfladen, når den vaskes fysisk.

Fremragende vakuumstabilitet: Ekstremt lavt damptryk sikrer, at det ikke frigiver urenhedsgasser i det ultra-høje vakuumkammer.

2. Kemisk sammensætning og tekniske indikatorer (Ultra-Høj renhed)

Vi anvender avancerede elektrolytiske raffinerings- og vakuumsmelteprocesser for at minimere skadelige urenheder såsom oxygen, nitrogen og brint.

3. Lean proces: fra tæt råemne til præcisionsplade

Fødslen af ​​hver kromplade har gennemgået en streng proces lukket sløjfe:

Højtryks isostatisk presning (HIP): Eliminer mikroskopiske porer inde i billetten for at sikre tæt og ensartet organisation.

Multi-varm-/koldvalsning: Fremragende kornorientering og overfladeplanhed gennem præcis reduktionskontrol.

Vakuumspændingsaflastning: Den unikke udglødningsproces sikrer, at pladen ikke vil vride sig under efterfølgende bearbejdning eller sputtering.

4. Produktspecifikationer og grundlæggende parametre (kan tilpasses)

Vi tilbyder en bred vifte af størrelsesstøtte lige fra eksperimentelle miniatureark til store-industrimål:

Tykkelse: 1,0 mm-20 mm (tilpasset efter anmodning eller tegning)

Bredde (Bredde): 5-200 mm, Op til 500 mm

Længde: Op til 1500 mm

Fladhed: Mindre end 0,2 mm

Tolerance: Inden for ± 0,1 mm (maksimalt til ± 0,05 mm for præcisionsgrad)

5. Overfladebehandling: harmoni og enhed af spejloverflade og funktion

Jord: Eliminerer rullende tekstur på overfladen for at give en ensartet fysisk overflade.

Poleret: Overfladefinishen kan nå Ra 0,4 um eller mere, dog kan der være risiko for buedannelse.

Ultralydsrensning: Fuldført i et trærum på 10.000-niveau-for at fjerne alle skærevæskerester og sikre, at-den er klar til brug uden for kassen.

6. Kernestyrke: Hvorfor foretrækker senioringeniører vores kromplader?

Kornforfiningsteknologi: De kromplader, vi producerer, har ensartet fine mikroskopiske korn (gennemsnitlig partikelstørrelse Mindre end eller lig med 100 um), hvilket betyder en mere ensartet filmdannelseshastighed, når de bruges som sputtermål.

Ekstremt høj bindingskompatibilitet: Den optimerede rygbehandlingsproces gør, at indiumsvejsningsbindingshastigheden med kobberbagpladen er så høj som 98%.

Fuld sporbarhed i livscyklus: Hver batch leveres med en komplet MTC (materialerapport) og ultralydsfejldetektionsrapport.

7. Anvendelsesområder: Dækker de mest banebrydende-industrielle tegninger

PVD/CVD sputtering-mål: fremstilling af barrierelag, gate-linjer i fladskærme (FPD).

Dekorativ belægning: Til forbrugerelektronik, hardware af høj-kvalitet for at give en ikke-slidsikker belægning af sølv,-.

Halvlederenheder: Fremstilling af vigtige filmlag til foto-masker.

Super-legeringsforskning: Som et grundlæggende additivmateriale til forskning og udvikling af-højtydende rustfrit stål og super-legeringer.